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华工正源专利技术可将相关工序效率提升1倍
2013-09-27
播报新闻
近日,华工正源数项专利申请获国家知识产权局授权,其中,发明专利“一种条形掩埋分布反馈半导体激光器的制作方法”掌握了光器件核心激光器制作的关键技术,采用本发明方法制作的激光器具有低阈值、低电阻、高可靠性、高成品率等特点,可在更大温度区间环境中稳定工作;实用新型专利“光探测器to-can自动耦合测试系统”相关技术的应用,能缩短耦合与上下料时间,减少人工成本,将产能由原来的90pcs/h提升到180pcs/h,效率提升1倍。
同时获得授权的还有发明专利“一种具有特殊组装结构的光收发合一模块”、实用新型专利“自动弯剪光通讯器件脚的夹具”、“一种实现窄波长间隔波段分离的光学装置”等,上述专利涉及芯片、to、器件、模块的核心技术,已经用于批量生产,对提升华工正源自主创新及规模生产的竞争优势具有重要意义。
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